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Sistema de deposición química de vapor (CVD)
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Sistema de deposición química de vapor (CVD)

Thfunción e:

 

La función del sistema de deposición química de vapor es depositar películas delgadas sobre el sustrato, mejorar las propiedades del material, fabricar dispositivos funcionales, lograr modificación de la superficie, controlar con precisión el espesor de las películas delgadas, mejorar la calidad del producto, ayudar en la investigación y el desarrollo. de nuevos materiales y utilizarse en la fabricación de circuitos integrados, etc., con las ventajas de una alta controlabilidad del proceso, capacidad de producción a gran escala y posiblemente un menor costo.

  • Certificación :

    Calibration Certificate(cost additional)
  • Precio :

    Negotiable
  • El tiempo de entrega :

    30 days
  • Términos de pago :

    L/C, T/T
  • Nombre de la marca :

    HCTE
  • Número de modelo :

    HCTE-VCM-003

Ámbito de aplicación:

 

Deposición de películas delgadas en la industria de chips semiconductores, energía solar fotovoltaica, LED y otras industrias.

 

 

Características del producto:

Campo de distribución y flujo de gas especialmente diseñado y sistema de control automático de presión de reacción. Asegure la uniformidad y estabilidad de la deposición, para cumplir con los requisitos de la capa activa y la capa de pasivación para el bajo defecto de la película delgada y una buena interfaz.

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Polyester Powder Coating for industry or architectures
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