Sistema de deposición química de vapor (CVD)

Thfunción e: La función del sistema de deposición química de vapor es depositar películas delgadas sobre el sustrato, mejorar las propiedades del material, fabricar dispositivos funcionales, lograr modificación de la superficie, controlar con precisión el espesor de las películas delgadas, mejorar la calidad del producto, ayudar en la investigación y el desarrollo. de nuevos materiales y utilizarse en la fabricación de circuitos integrados, etc., con las ventajas de una alta controlabilidad del proceso, capacidad de producción a gran escala y posiblemente un menor costo.

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